㒄
㐴
材料热处理学报, 2017, 38(3): 159-166.
钕铁硼表面真空蒸镀Al膜的制备及其性能

刘家琴 1, , 曹玉杰 2, , 张鹏杰 3, , 张浩 4, , 衣晓飞 5, , 陈静武 6, , 吴玉程 7,

1.合肥工业大学工业与装备技术研究院,安徽合肥,230009;
2.合肥工业大学工业与装备技术研究院,安徽合肥,230009;
3.合肥工业大学材料科学与工程学院,安徽合肥230009;稀土永磁材料国家重点实验室,安徽合肥231500;
4.合肥工业大学工业与装备技术研究院,安徽合肥,230009;
5.稀土永磁材料国家重点实验室,安徽合肥,231500;
6.稀土永磁材料国家重点实验室,安徽合肥,231500;
7.合肥工业大学材料科学与工程学院,安徽合肥,230009
为了提高烧结NdFeB磁体的耐腐蚀性能,采用真空蒸镀的方法在烧结NdFeB磁体表面沉积A1薄膜,并对工艺过程中的工艺参数进行优化.结果表明:真空室温度对Al薄膜的结构及耐腐蚀性能基本没有影响,但温度过高会导致Al薄膜表面岛状结构的增大,造成Al薄膜的厚度一致性难以控制;随着蒸发源温度的增加,Al薄膜的沉积速率逐渐增加,但是随着蒸镀时间的延长,Al薄膜的沉积效率逐渐降低,这是由于Al蒸发原子在基片上冷凝沉积的物理驱动力下降导致的.采用最佳工艺参数制备的厚度为8μm的Al薄膜,耐中性盐雾试验时间可达60 h,且Al镀层的涂覆对NdFeB磁体的磁性能基本没有影响.
引用： 刘家琴, 曹玉杰, 张鹏杰, 张浩, 衣晓飞, 陈静武, 吴玉程 钕铁硼表面真空蒸镀Al膜的制备及其性能. 材料热处理学报, 2017, 38(3): 159-166. doi: 
参考文献：

相似文献: