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钛工业进展, 2017, 34(3): 37-39.
电化学刻蚀对钛基IrO2-Ta2O5电极性能的影响

张苓 1, , 冯庆 2, , 蔡继东 3, , 张玉萍 4, , 贺斌 5,

1.西安泰金工业电化学技术有限公司,陕西西安,710201;
2.西安泰金工业电化学技术有限公司,陕西西安,710201;
3.西安泰金工业电化学技术有限公司,陕西西安,710201;
4.西安泰金工业电化学技术有限公司,陕西西安,710201;
5.西安泰金工业电化学技术有限公司,陕西西安,710201
采用电化学刻蚀处理钛基材,再通过涂覆、烧结的方法制备出钛基IrO2-Ta2 O5电极.与喷砂处理相比,经电化学刻蚀处理后,钛基材表面的凹坑分布更均匀,涂覆涂层后的钛基IrO2-Ta2 O5电极的表面凹坑深浅均匀,呈规则分布.强化寿命测试结果表明,经电化学刻蚀处理后制备的钛电极强化寿命平均值达到20 d,比喷砂处理后制备的电极寿命(16 d)显著提高20%;电化学刻蚀处理后制成的钛电极析氧电位为1.62~1.73 V,明显低于喷砂后制备的钛电极(1.92 V),电解时可降低电耗.
引用： 张苓, 冯庆, 蔡继东, 张玉萍, 贺斌 电化学刻蚀对钛基IrO2-Ta2O5电极性能的影响. 钛工业进展, 2017, 34(3): 37-39. doi: 
参考文献：

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