㒄
㐴
材料科学与工艺, 2017, 25(2): 10-15.
10.11951/j.issn.1005-0299.20160358
Zr基块体非晶合金微通道阵列过冷液相区压印工艺

程思锐 1, , 王春举 2, , 单德彬 3, , 郭斌 4,

1.哈尔滨工业大学大学材料科学与工程学院,哈尔滨150001;金属精密热加工国家级重点实验室(哈尔滨工业大学),哈尔滨150001;中航工业北京航空制造工程研究所,北京100024;
2.哈尔滨工业大学大学材料科学与工程学院,哈尔滨150001;金属精密热加工国家级重点实验室(哈尔滨工业大学),哈尔滨150001;
3.哈尔滨工业大学大学材料科学与工程学院,哈尔滨150001;金属精密热加工国家级重点实验室(哈尔滨工业大学),哈尔滨150001;
4.哈尔滨工业大学大学材料科学与工程学院,哈尔滨150001;金属精密热加工国家级重点实验室(哈尔滨工业大学),哈尔滨150001
本文利用Zr41Ti14Cu12.5Ni10Be22.5(Vit1)块体非晶合金对不同宽度的微通道阵列进行充填实验,并研究了形腔宽度、压印载荷与温度对微通道阵列充填高度的影响规律.实验结果表明,随着型腔宽度和压印载荷的增加,微通道充填高度逐渐上升.这就意味着较高的载荷和型腔宽度有利于Vit1块体非晶合金在微通道中了流动.成形温度由673 K上升至703 K时,微通道充填高度由9.1μm增加至46.6 μm;然而,当实验温度达到713 K时,微通道阵列的充填高度急剧下降至26.9 μm.XRD结果显示,在713 K下成形后的试样中存在大量亚稳态的晶化相,非晶基体中的晶化相会增大材料的流动阻力,从而降低其对微通道阵列的充填能力.因此,Vit1合金微通道阵列成形温度区间应控制在673～703 K.
引用： 程思锐, 王春举, 单德彬, 郭斌 Zr基块体非晶合金微通道阵列过冷液相区压印工艺. 材料科学与工艺, 2017, 25(2): 10-15. doi: 10.11951/j.issn.1005-0299.20160358
参考文献：

相似文献: