无机材料学报, 2017, 32(6): 571-580.
10.15541/jim20160461
大气等离子体喷涂的单片层研究进展

李大川 1, , 赵华玉 2, , 钟兴华 3, , 陶顺衍 4,

1.中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海 201899;中国科学院大学,北京 100049;
2.中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海 201899;
3.中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海 201899;
4.中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海 201899

大气等离子体喷涂技术是一种常用的涂层制备工艺.作为所制备涂层的结构基元,单片层的形貌特征及堆叠行为决定了涂层的微结构,对涂层性能产生显著影响.本文较为系统地综述了与熔滴自身理化状态相关的主体因素、与沉积涂层的衬底相关的客体因素以及环境因素等对单片层形成过程的影响,着重分析了粉体尺寸、衬底预热过程等产生的多种不同影响及其之间的关联性,并通过对所述文献涉及实验方法各自特点的比较,提出未来的实验和模拟研究或都将向着与真实生产条件更加接近的方向发展.
引用: 李大川, 赵华玉, 钟兴华, 陶顺衍 大气等离子体喷涂的单片层研究进展. 无机材料学报, 2017, 32(6): 571-580. doi: 10.15541/jim20160461
参考文献:

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