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表面技术 , 2017, 46(6): 168-173.
10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.026
非平衡磁控溅射沉积Ti-N薄膜色彩和性能调控研究

严晟硕 1, , 李安锁 2, , 祝超越 3, , 叶崇晖 4, , 章陵 5, , 鲍晓晅 6, , 鲍明东 7,

1.宁波工程学院 材料与化学工程学院,浙江 宁波,315211;
2.宁波工程学院 材料与化学工程学院,浙江 宁波,315211;
3.宁波工程学院 材料与化学工程学院,浙江 宁波,315211;
4.宁波工程学院 材料与化学工程学院,浙江 宁波,315211;
5.宁波工程学院 材料与化学工程学院,浙江 宁波,315211;
6.宁波工程学院 材料与化学工程学院,浙江 宁波,315211;
7.宁波工程学院 材料与化学工程学院,浙江 宁波,315211
目的 研究Ti-N薄膜颜色和硬度及其结合强度的影响因素.方法 利用封闭磁场非平衡磁控溅射离子镀膜技术,该变溅射偏压、氮气流量等参数,分别在304不锈钢基体和载玻片基体上沉积多彩Ti-N薄膜.用努氏硬度、划痕法和球坑法分别评价Ti-N薄膜的显微硬度和结合强度等性能.结果 当偏压和溅射电流分别为60 V和2 A时,将反应气体氮气流量从3sccm逐渐增加到20sccm,Ti-N薄膜颜色依次发生从"淡黄-金黄-红黄-紫红-金黄"的循环变化趋势.薄膜的硬度随氮气流量的增加在601~700HK之间呈逐步上升的趋势.膜基结合普遍较好.当氮气流量和溅射电流分别为10sccm和2 A时,将负偏压从50 V逐渐增加到120 V,薄膜颜色从淡黄色变成金黄色,膜基结合强度较好.硬度随偏压的增加变化不明显.结论 影响Ti-N薄膜颜色的主要因素为氮气流量,偏压也可以轻微地改变薄膜颜色,但对薄膜性能影响并不明显.
引用： 严晟硕, 李安锁, 祝超越, 叶崇晖, 章陵, 鲍晓晅, 鲍明东 非平衡磁控溅射沉积Ti-N薄膜色彩和性能调控研究. 表面技术 , 2017, 46(6): 168-173. doi: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.026
参考文献：

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