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高分子材料科学与工程, 2017, 33(2): 34-38.
10.16865/j.cnki.1000-7555.2017.02.007
纳米SiO2的光敏改性及在光固化复合涂层中的应用

韦军 1, , 路璐 2,

1.盐城工学院材料工程学院,江苏盐城,224051;
2.常州大学材料科学与工程学院,江苏常州,213164
以六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、4,4’-二羟基二苯甲酮(DHBP)、N-甲基二乙醇胺(MDEA)为原料,合成出主链含有夺氢型光引发剂以及共引发剂胺结构的NCO封端的聚氨酯预聚体,将预聚体接枝到纳米SiO2表面,得到具有聚氨酯结构的光敏性纳米SiO2 (PU-photo-SiO2),然后将其添加到聚氨酯丙烯酸酯树脂(PUA)中制备出光固化复合膜.红外光谱证实了PU-photo-SiO2的成功合成;扫描电镜、热重分析、冲击强度等研究表明,PU-photo-SiO2与光固化PUA树脂的相容性较好,利于提高光固化膜的热稳定性和力学性能.
引用： 韦军, 路璐 纳米SiO2的光敏改性及在光固化复合涂层中的应用. 高分子材料科学与工程, 2017, 33(2): 34-38. doi: 10.16865/j.cnki.1000-7555.2017.02.007
参考文献：

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