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功能材料, 2017, 48(4): 4105-4109.
10.3969/j.issn.1001-9731.2017.04.018
纳米晶NiO薄膜的电化学沉积及其光学性能研究

吴朝晖 1, , 甘小燕 2, , 杜湘军 3, , 刘克永 4,

1.东莞市凯昶德电子科技股份有限公司,广东东莞523710;武汉理工大学材料学院,武汉430070;
2.武汉理工大学材料学院,武汉430070;武汉理工大学汽车工程学院,武汉430070;
3.武汉理工大学材料学院,武汉,430070;
4.武汉理工大学材料学院,武汉,430070
以Ni(NO3)2水溶液为沉积液,采用阴极电化学沉积法在FTO导电玻璃上制备了纳米晶NiO薄膜.通过X射线衍射、紫外-可见光透过谱等手段表征薄膜结晶性、表面微观形貌以及光学特性.结果表明,沉积电位以及沉积时间均对电化学沉积法薄膜沉积过程存在重要影响.在优化条件下(沉积电压为-0.9 V、沉积时间为2～5 min),所获薄膜致密均一,无裂纹,对可见光的透过率高达85％.
引用： 吴朝晖, 甘小燕, 杜湘军, 刘克永 纳米晶NiO薄膜的电化学沉积及其光学性能研究. 功能材料, 2017, 48(4): 4105-4109. doi: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.04.018
参考文献：

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