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功能材料, 2017, 48(6): 6050-6056.
10.3969/j.issn.1001-9731.2017.06.009
过渡金属表面CVD石墨烯的生长机理研究进展

吴涛 1, , 张晓伟 2, , 蒋业华 3,

1.昆明理工大学 材料科学与工程学院,昆明,650093;
2.昆明理工大学 材料科学与工程学院,昆明,650093;
3.昆明理工大学 材料科学与工程学院,昆明,650093
石墨烯由于其独特的优异性能逐渐成为新材料领域的研究热点.在石墨烯的各类制备方法中,CVD法已然成为大面积石墨烯制备的主流方法.与铜表面形核生长石墨烯相比,钌、铱、镍、钴等过渡金属作为CVD法制备石墨烯的衬底时,其生长机理完全不同于前者.综述了过渡金属表面CVD石墨烯的生长机理,并总结了石墨烯大规模生产和金属催化剂再利用所面临的困难和挑战.
关键词： 石墨烯   CVD   过渡金属   催化剂   衬底
引用： 吴涛, 张晓伟, 蒋业华 过渡金属表面CVD石墨烯的生长机理研究进展. 功能材料, 2017, 48(6): 6050-6056. doi: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.06.009
参考文献：

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