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功能材料, 2017, 48(6): 6183-6192.
10.3969/j.issn.1001-9731.2017.06.033
高温化学气相沉积法制备致密碳化钽涂层

张丽 1, , 齐海涛 2, , 徐永宽 3, , 王利杰 4, , 史月增 5, , 刘金鑫 6,

1.中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津,300220;
2.中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津,300220;
3.中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津,300220;
4.中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津,300220;
5.中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津,300220;
6.中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津,300220
采用高温化学气相沉积法(CVD)在高纯高密石墨基片的表面沉积了碳化钽(TaC)涂层.通过研究气化温度、气体流量及沉积温度对TaC涂层表面质量的影响,确定了高温CVD法制备TaC涂层的工艺参数,最终获得高致密度的TaC涂层.
关键词： 高温CVD   TaC涂层   工艺条件
引用： 张丽, 齐海涛, 徐永宽, 王利杰, 史月增, 刘金鑫 高温化学气相沉积法制备致密碳化钽涂层. 功能材料, 2017, 48(6): 6183-6192. doi: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.06.033
参考文献：

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