采用射频反应溅射制备SiNx薄膜,作为以Ag膜为功能层的D/M/D结构透明导电膜中的电介质膜,并研究射频功率、气压以及N2流量对SiNx薄膜光学常数的影响.结果表明,SiNx薄膜具有非晶态结构,光学常数在300~ 2500nm波长范围内符合正常色散关系.椭偏测试及Cauchy模型拟合结果表明,折射率随功率、气压以及N2流量升高而降低,SiNx光学常数最佳的工艺条件为功率300W,气压0.16Pa,N2与Ar流量比例1∶1,此时薄膜折射率为2.02,消光系数为0,最接近具有化学计量比的Si3N4薄膜的光学常数.按此工艺制备的SiNx膜在优化厚度为44nm的条件下作为20nm厚度Ag膜的电介质膜,当只有表面SiNx膜时,Ag膜透光率由29.17%提高至55.01%,当Ag膜上下均制备SiNx膜时,透光率进一步提高至66.12%.
参考文献
[1] | 刘静,刘丹,顾真安.介质/金属/介质多层透明导电薄膜研究进展[J].材料导报,2005(08):9-12. |
[2] | GLASERHJ.Large area glass coating[M].上海:上海交通大学出版社,2006:128. |
[3] | 杨晓东 .银基电磁屏蔽镀膜玻璃[D].武汉理工大学,2008. |
[4] | 汪洪,左岩,刘静.节能镀膜玻璃及其膜系开发[C].2010年中国玻璃行业年会暨技术研讨会论文集,2010:121-126. |
[5] | Ming Hu;Xiaoming Gao;Jiayi Sun;Lijun Weng;Feng Zhou;Weimin Liu .The effects of nanoscaled amorphous Si and SiN_x protective layers on the atomic oxygen resistant and tribological properties of Ag film[J].Applied Surface Science: A Journal Devoted to the Properties of Interfaces in Relation to the Synthesis and Behaviour of Materials,2012(15):5683-5688. |
[6] | M.A. Signore;A. Sytchkova;D. Dimaio;A. Cappello;A. Rizzo .Deposition of silicon nitride thin films by RF magnetron sputtering: a material and growth process study[J].Optical materials,2012(4):632-638. |
[7] | XU X D;HE Q;FAN T J et al.Hard and relaxed aSiNxHy films prepared by PECVD:structure analysis and formation mechanism[J].Applied Surface Science,2013,264:823-831. |
[8] | Rabaa Bousbih;Wissem Dimassi;Ikbel Haddadi;Sonia Ben Slema;Paolo Rava;Hatem Ezzaouia .Silicon lifetime enhancement by SiN_x:H anti-reflective coating deposed by PECVD using SiH_4 and N_2 reactive gas[J].Solar Energy,2012(5):1300-1305. |
[9] | 刘昊轩,杭凌侠,薛俊.PECVD 制备光学氮化硅薄膜均匀性分析研究[J].光学仪器,2014(04):364-368,376. |
[10] | 宋文燕,崔虎.气体流量比对反应溅射Si3N4薄膜的影响[J].真空,2006(05):23-25. |
[11] | 邬洋,衣立新,王申伟,杜玙瑶,黄圣,冀国蕊,王永生.磁控溅射法沉积SiNx非晶薄膜的生长机制及结构分析[J].光谱学与光谱分析,2009(05):1260-1263. |
[12] | 陈晖,周细应.磁控溅射SiNx薄膜的表面动态演化行为[J].表面技术,2012(01):23-26. |
[13] | 赵青南,董玉红,刘莹,赵庆忠,赵修建.氮化硅薄膜热处理前后表面组成和折射率[J].武汉理工大学学报,2010(22):156-159. |
[14] | 李威,金承钰.薄膜材料的椭圆偏振数据分析方法[J].光谱实验室,2010(01):66-76. |
[15] | 邱春文,陈雄文,石旺舟,欧阳艳东.磁控反应溅射法低温制备氮化硅薄膜[J].汕头大学学报(自然科学版),2003(02):35-39. |
[16] | 高峰 .磁控溅射法制备氮化硅薄膜及其性能研究[D].武汉理工大学,2010. |
[17] | 颜悦;厉蕾.航空座舱透明材料应用研究新进展[M].北京:国防工业出版社,2011:181-183. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%