二元氧化物熔盐Na2WO4-WO3是一种理想的电沉积钨涂层熔盐体系,研究该熔盐在不同条件下的成分变化及离子组成对电沉积钨涂层技术参数与性能控制非常重要.通过XRD、Raman光谱和SEM等测试分析技术,系统分析了熔融温度和电沉积时间对二元氧化物熔盐Na2WO4-WO3的成分和离子组成的影响,同时分析了在该熔盐中采用电沉积方法获得的钨涂层的表面形貌.结果表明,熔融温度与电沉积时间对熔盐的成分和离子种类都没有影响,电沉积中主要的离子源来自于阳极钨;电沉积获得的涂层为纯金属钨,而且表面致密均匀.
参考文献
[1] | Senderoff S;Mellors .Electrodeposition of coherent deposition of refractory metals[J].Journal of the Electrochemical Society,1967,114(6):586. |
[2] | Koji N;Shinji I;Kazunori O et al.Analysis of tungsten film electrodeposition from a ZnCl2-NaCl-KCl melt[J].Electrochimica Acta,2007,53:20. |
[3] | Hironori N;Toshiyuki N;Rika H et al.Electrodeposition of metallic tungsten films in ZnCl2-NaCl-KCl-KF-WO3 melt at 250 ℃[J].Electrochimica Acta,2007,53(1):24. |
[4] | 李运刚 .熔盐电化学法制备Fe-W功能梯度材料的基础研究[D].东北大学,2005. |
[5] | 刘艳红;张迎春;刘其宗 等.熔盐电镀过程中Na2 WO4-WO3-ZnO熔盐体系的成分分析和电化学反应机理研究[J].稀有金属材料与工程,2011,40(1):436. |
[6] | Yabe H;Ema K;Ito Y .The dissociation equilibria of tungstate ion in a molten fluoride and the effect on electrodeposition[J].Journal of the Electrochemical Society,1990,137:1739. |
[7] | Szilagyi IM;Pfeifer J;Balazsi C;Toth AL;Varga-Josepovits K;Madarasz J;Pokol G .THERMAL STABILITY OF HEXAGONAL TUNGSTEN TRIOXIDE IN AIR[J].Journal of thermal analysis and calorimetry,2008(2):499-505. |
[8] | Y.H. Liu;Y.C. Zhang;Q.Z. Liu;X.L. Li;F.Jiang .Electro-deposition metallic tungsten coatings in a Na_2WO_4-WO_3 melt on copper based alloy substrate[J].Fusion engineering and design,2012(11):1861-1865. |
[9] | 马瑞新 .Na<,2>WO<,4>-ZnO-WO<,3>体系熔盐镀钨及镀层织构的研究[D].北京有色金属研究总院,2000. |
[10] | 马瑞新,周传华,李国勋,王超群,孙丽虹.Na2WO4-WO3-ZnO体系熔盐镀钨[J].中国有色金属学报,2000(05):715. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%