粉末靶射频磁控溅射非晶Al2O3薄膜的制备与性能研究

金属学报, 2016, 52(12): 1595-1600. doi: 10.11900/0412.1961.2016.00139

粉末靶射频磁控溅射非晶Al2O3薄膜的制备与性能研究

吴法宇 ^1, , 李建伟 ^2, , 齐羿 ^3, , 丁梧桐 ^4, , 樊子铭 ^5, , 周艳文 ^6,

1.辽宁科技大学材料与冶金学院,鞍山,114051

2.辽宁科技大学材料与冶金学院,鞍山,114051

3.中国重汽(香港)有限公司济南铸锻中心,章丘,250200

4.沈阳工业大学材料科学与工程学院,沈阳,110870

5.辽宁科技大学材料与冶金学院,鞍山,114051

6.辽宁科技大学材料与冶金学院,鞍山,114051

基金项目: 国家自然科学基金项目51372109和51502126,以及辽宁省教育厅科学研究项目L2015260资助 Supported by National Natural Science Foundation of China (Nos.51372109 and 51502126) and Foundation of Educational Department of Liaoning (No.L2015260)

关键词：非晶Al2O3薄膜 , 射频磁控溅射 , 光学性能 , 抗菌特性

STUDY ON PREPARATION AND PROPERTIES OF AMORPHOUS Al2O3 THIN FILMS BY RADIO FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING FROM POWDER TARGET

Keywords： amorphous Al2O3 film , radio frequency magnetron sputtering , optical property , antimicrobial characteristic

采用粉末靶射频磁控溅射方法制备非晶Al2O3薄膜,分析了溅射工艺参数对Al2O3薄膜微观结构、表面形貌、光学性能的影响规律及机理,并探究其抗菌特性.研究结果表明:增加氧通量、降低溅射功率和缩短溅射时间均会减小非晶Al2O3薄膜颗粒度与粗糙度,同时也降低薄膜的沉积速率;并且,氧通量的增加和溅射时间的缩短均会使非晶Al2O3薄膜禁带宽度变宽(最大值可达4.21 eV)、透光率增大(超过90％);光照条件下非晶Al2O3薄膜24 h抗菌率最高可达98.6％,体现出了较好的光催化抗菌性.

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