在不同沉积时间和基板温度下,采用反应磁控溅射的方法在Ti6Al4V基板上沉积TiN薄膜,溅射过程中固定溅射总压、溅射功率、氮氩流量比等沉积条件.利用XRD、SEM分别研究了薄膜的微观结构和表面、截面形貌,利用显微硬度仪和划痕仪分别测量了薄膜的硬度和膜基结合力.研究结果表明:随着沉积时间的增加,薄膜硬度和膜基结合力均有增大趋势;随着基板温度的升高,TiN薄膜择优取向由(lll)转向(200)晶面,表面形貌由三角锥转变为片层状,硬度和膜基结合力均呈现升高趋势.
参考文献
| [1] | 晏鲜梅,熊惟皓.氮化钛硬质薄膜的制备方法[J].材料导报,2006(z1):236-238. |
| [2] | 吕长东,黄关东,刘野,许世鹏,薛利.氮气流量对磁控溅射TiN膜层色泽的影响[J].电镀与精饰,2013(03):5-6,12. |
| [3] | 田颖萍,范洪远,成靖文.氮氩流量比对磁控溅射TiN薄膜生长织构的影响[J].表面技术,2012(03):19-21,25. |
| [4] | 刘倩,刘莹,朱秀榕,胡敏.氩气与氮气流量比对磁控溅射法制备TiN薄膜的影响[J].机械工程材料,2009(03):8-11. |
| [5] | 雒向东.不同N2气流量比反应溅射TiN薄膜的表面形貌分形特征[J].量子电子学报,2008(03):346-350. |
| [6] | 江范清 .划痕法评价氮化钛薄膜结合力研究[D].西南交通大学,2012. |
| [7] | 张金林,贺春林,王建明,才庆魁.基体温度对磁控溅射TiN薄膜结构与力学性能的影响[J].沈阳大学学报,2012(04):23-27. |
| [8] | Zhang, L.;Yang, H.;Pang, X.;Gao, K.;Volinsky, A.A..Microstructure, residual stress, and fracture of sputtered TiN films[J].Surface & Coatings Technology,2013:120-125. |
| [9] | Hoang NH.;Mcfall WD.;Yin Y.;Mckenzie DR. .PROPERTIES OF TIN FILMS DEPOSITED AT LOW TEMPERATURE IN A NEW PLASMA-BASED DEPOSITION SYSTEM[J].Journal of Applied Physics,1996(11):6279-6285. |
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