原位合成MoSi2-SiC复合材料的断裂韧性明显高于单一MoSi2的断裂韧性组织结构的TEM与HREM研究结果表明:原位合成MoSi2/SiC界面为直接的原子结合,无SiO2非晶层存在结合对该复合材料的KIc断口形貌及压痕裂纹连续扩展路径的观察分析表明,其室温增韧机制为MoSi2-SiC界面间较高的结合力、MoSi2基体晶粒细化及裂纹偏转和桥接.
参考文献
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| [2] | Zhang L Q, Sun Z Q, Yang W Y, Zhang Y, Acta Metall Sin, 1999, 35(Suppl.2): S408(张来启,孙祖庆,杨王玥,张跃金属学报,1999,35(增刊2):S408) |
| [3] | Zhang L Q, Sun Z Q, Yang W Y, Zhang Y. Acta Metall Sin, 1998, 34:1205(张来启,孙祖庆,杨王玥,张跃金属学报,1998,34:1205) |
| [4] | Test Method of Plain Strain Fracture Toughness of High Temperature Structural Ceramics. Internal Standard of The Research Institute of Construction Materials, 75-70-03, 1988(高温结构陶瓷平面应变断裂韧性试验方法.北京建筑材料研究院内部标准,75-70-03,1988) |
| [5] | Zhang L Q. PhD Thesis, University of Science & Technology Beijing, 1999(张来启.北京科技大学博士学位论文,1999) |
| [6] | Zhang G J, Jin Z Z. J Silic, 1994, 22:259(张国军,金宗哲.硅酸盐学报,1994,22:259) |
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