本文对NiTi合金的电解抛光机理进行了初步的探索.研究表明:NiTi合金的电解抛光特性曲线与典型的电解抛光特性曲线有显著不同,不存在稳定的电流平台区.当试样在低电位区抛光时,抛光速度为反应产物通过粘滞层的扩散速度所控制;而当试样在高电位区抛光时,则以点蚀机制为主.
参考文献
[1] | Trigwell S, Selvaduray G. Proc 2nd Inter Conf on Shape Memory and Superelastic Technol. California, 1997:383 |
[2] | Miao W D, Mi X J et al., Proc Inter Conf On SMMSMST, Kunming, 2001:173 |
[3] | 向显德.电化学擦削技术.北京:国防工业出版社,1994:33 |
[4] | 沈桂琴.光学金相技术.北京:北京航空航天大学出版社,1992:42 |
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