TiN附着膜的应力-应变关系

金属学报, 2003, 39(7): 721-724. doi: 10.3321/j.issn:0412-1961.2003.07.009

TiN附着膜的应力-应变关系

覃明 ^1, , 嵇宁 ^2, , 汪伟 ^3, , 陈昌荣 ^4, , 李家宝 ^5, , 马胜利 ^6,

1.中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室，沈阳 110016

2.LM3 ESA CNRS 8006, Ecole Nationale Supérieure D'Arts et Métiers, 151 Bd. de l'Hpital, 75013, Paris, France

3.中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室，沈阳 110016

4.中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室，沈阳 110016

5.中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室，沈阳 110016

6.西安交通大学金属材料强度国家重点实验室，西安 710049

基金项目: 国家自然科学基金(59931010,50272067)

关键词： TiN膜 , 双轴应力 , 应力-应变关系 , X射线拉伸实验 , 纳米压痕法

Stress-Strain Relationship of a TiN Film Adherent to Substrate

利用等离子体辅助化学气相沉积法(PACVD)在60Mn钢基片上沉积2.5μm厚的TiN膜．借助X射线应力分析技术和微拉伸设备，测量该附着膜纵向(加载方向)应力和横向应力及外载应变，进而求其等效应力-等效单轴应变关系，并由此算得它的条件屈服点σ(0.1)和σ(0.2)分别为4.2和4.4 GPa，加工硬化指数为0.36．用纳米压痕仪测得其硬度为25 GPa，弹性模量为420 GPa．TiN膜在拉伸过程中发生了塑性变形．

参考文献

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