欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

用脉冲直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法,在高速钢试样表面沉积出一种新型Ti-Si-C-N薄膜材料.研究了不同SiCl4流量对薄膜成分、微观组织形貌以及薄膜晶体结构的影响.X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)分析结果表明:Ti-Si-C-N薄膜是由Ti(C,N)/a-C/a-Si3N4组成的纳米复合结构,薄膜的晶粒尺寸在2-25 nm范围内;当Ti-Si-C-N薄膜中N含量很少时,Ti(C,N)结构转变为TiC,薄膜的表面形貌由颗粒状转变为粗条状.

参考文献

[1] Ma D Y, Ma S L, Xu K W. Surf Coat Technol, 2004; 184:182
[2] Ma D Y, Ma S L, Xu K W. Acta Metall Sin, 2004; 40:1037(马大衍,马胜利,徐可为.金属学报,2004;40:1037)
[3] Ma D Y, Ma S L , Xu K W. Acta Metall Sin, 2003; 39:1047(马大衍,马胜利,徐可为.金属学报,2003;39:1047)
[4] Heim D, Holler F, Mitterer C. Surf Coat Technol, 1999;116:530
[5] Veprek S. Thin Solid Films, 1995; 268:64
[6] Ma D Y, Ma S L, Xu K W. Tribology, 2003; 23:476(马大衍,马胜利,徐可为.摩擦学报,2003;23:476)
[7] Ma S L, Ma D Y, Xu K W. Tribology, 2003; 23:179(马胜利,马大衍,徐可为.摩擦学报,2003;23:179)
[8] Veprek S. Vaccum, 2002; 67:443
[9] Ma S L, Xu K W. Acta Metall Sin, 2004; 40:669(马胜利,徐可为.金属学报,2004;40:669)
[10] Ma S L, Xu K W, Jie W. J Vac Sci Technol, 2004; 22B:1694
[11] Karvánková P. Doctor Degree Thesis, Technical University Munich, Germany, 2003
[12] Niu X P. Master Degree Thesis, Xi'an Jiaotong University,2004(牛新平.西安交通大学硕士学位论文,2004)
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%