PCVD制备新型Ti-Si-C-N纳米复合超硬薄膜及其微观结构表征

金属学报, 2005, 41(9): 985-988. doi: 10.3321/j.issn:0412-1961.2005.09.016

PCVD制备新型Ti-Si-C-N纳米复合超硬薄膜及其微观结构表征

1.西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049

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4.西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049

基金项目: 教育部跨世纪优秀人才培养计划(NCET-04-0934) 国家自然科学基金(50420130033) 国家重点基础研究发展计划(973计划)(2004CB619302) 国家自然科学基金(50271053,50371067)

关键词： Ti-Si-C-N , PCVD , 纳米复合薄膜 , 微观结构

PREPARATION AND MICROSTRUCTURE CHARACTERISTICS OF SUPER-HARD NANOCOMPOSITE Ti-Si-C-N COATINGS DEPOSITED BY PULSED DC PCVD

用脉冲直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法,在高速钢试样表面沉积出一种新型Ti-Si-C-N薄膜材料.研究了不同SiCl4流量对薄膜成分、微观组织形貌以及薄膜晶体结构的影响.X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)分析结果表明:Ti-Si-C-N薄膜是由Ti(C,N)/a-C/a-Si3N4组成的纳米复合结构,薄膜的晶粒尺寸在2-25 nm范围内;当Ti-Si-C-N薄膜中N含量很少时,Ti(C,N)结构转变为TiC,薄膜的表面形貌由颗粒状转变为粗条状.

参考文献

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