氧原子在γ-TiAl(111)表面吸附的第一性原理研究

金属学报, 2006, 42(9): 897-902. doi: 10.3321/j.issn:0412-1961.2006.09.001

氧原子在γ-TiAl(111)表面吸附的第一性原理研究

李虹 ^1, , 刘利民 ^2, , 王绍青 ^3, , 叶恒强 ^4,

1.中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,沈阳,110016

2.中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,沈阳,110016

3.中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,沈阳,110016

4.中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,沈阳,110016

基金项目: 国家重点基础研究发展计划(973计划)(G2000067104)

关键词： γ-TiAl , 第一性原理 , 氧化 , 吸附能 , 表面能 , 化学势

FIRST-PRINCIPLES STUDY OF OXYGEN ATOM ADSORPTION ON γ-TiAl(111) SURFACE

运用第一性原理方法对氧原子在γ-TiAl(111)表面的吸附研究表明,氧原子倾向于吸附在近邻表面层多Ti的位置,随着覆盖率的增加,表面不同位置吸附能差别减小.电子结构分析发现,氧原子同表面金属原子形成以离子特性为主的化学吸附.氧化学势对TiAl表面稳定性影响的研究表明,γ-TiAl(111)清洁表面只能在氧化学势很低时可以稳定存在,氧化学势稍高,清洁表面就变得不稳定,氧原子开始吸附,并迅速达到高覆盖率的情况.

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