低能量离子束辐照磁控溅射沉积超硬质nc-TiN/nc-Cu纳米复合膜

金属学报, 2006, 42(9): 993-997. doi: 10.3321/j.issn:0412-1961.2006.09.019

低能量离子束辐照磁控溅射沉积超硬质nc-TiN/nc-Cu纳米复合膜

李铸国 ^1, , 俞海良 ^2, , 吴毅雄 ^3, , 三宅正司 ^4,

1.上海交通大学材料科学与工程学院,上海,200030

2.上海交通大学材料科学与工程学院,上海,200030

3.上海交通大学材料科学与工程学院,上海,200030

4.近畿大学,大阪,577-8502,日本

基金项目: 国家自然科学基金(50572063) 教育部留学回国人员科研启动基金

关键词：磁控溅射 , 离子照射 , 纳米复合膜 , 硬度

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利用诱导型等离子体辅助双靶磁控溅射法在Si(100)基板表面沉积Cu含量(原子分数)为0-10.0%的Ti-Cu-N膜,研究了Cu含量对薄膜结构及硬度的影响.结果表明,添加少量Cu可极大地提高薄膜硬度.Cu含量为2.0%的Ti-Cu-N薄膜具有超硬特性,硬度HV达到42,约为纯TiN薄膜硬度的2倍.超硬质Ti-Cu-N薄膜为nc-TiN/nc-Cu纳米复合薄膜,具有柱状晶结构.薄膜的超硬特性源于薄膜的纳米复合结构.

参考文献

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