等离子喷涂碳化硼涂层相组成和电学性能研究

无机材料学报, 1999, 14(1): 127-132. doi: 10.3321/j.issn:1000-324X.1999.01.021

等离子喷涂碳化硼涂层相组成和电学性能研究

曾毅 ^1, , 张叶方 ^2, , 黄静琪 ^3, , 丁传贤 ^4,

1.中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050

2.中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050

3.中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050

4.中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050

关键词：碳化硼涂层 , 喷涂距离 , 电导率 , 显微结构

Influence of Spraying Distance on Phase Composition andElectronic Property of Plasma Boron Carbide Coating

采用大气等离子喷涂,在不同喷涂距离下制备了碳化硼涂层,研究了喷涂崐距离对碳化硼涂层的显微结构、相组成和电导率的影响.用EDS和XPS分析了涂层的相组成;扫描电镜观察涂层的显微结构;标准四探针法测量涂层的电导率. 结果表明,喷涂距离不仅会影响碳化硼涂层的显微结构,而且会改变碳化硼涂层的相组成;等离子喷涂碳化硼涂层的表面电导率随温度的增加而增加,表现出明显的半导体特性;涂层表面电导率同相组成和显微结构密切相关,涂层中B2O3相含量越高,气孔率越大,则涂层的电导率越低.

参考文献

[1]	Samsonov G V, Vinitskii I M. Handbook of Refractory Compounds., IFI / Plenum. NY, 1980. 414-415
[2]	Milkins M L. In Boron and Refractory Borides, Edited by B.L.Matkovich. Springer-Verlag, NY, 1977. 633-634
[3]	Reinmuth K, Lipp A, Knoch H, et al. J. Nucl. Mater., 1984, 175: 124-129
[4]	Kanno Y. Yogyo Kyokaishi. 1986, 94 (4): 449-451
[5]	Bouchacourt M, Thevenot F. J. Mater. Sci., 1986, 20: 1237-1247
[6]	Wood C, Emin D. Phys Rev, B, 1984, 29: 4582-4586
[7]	Bray B, et al., J. Less-common Metals 1979, 67: 327-343

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