稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜的刻蚀

无机材料学报, 2002, 17(1): 172-174. doi: 10.3321/j.issn:1000-324X.2002.01.030

稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜的刻蚀

王佳宇 ^1, , 金爱子 ^2, , 白亦真 ^3, , 纪红 ^4, , 金曾孙 ^5,

1.吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春,130023

2.吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春,130023

3.吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春,130023

4.吉林大学物理系,长春,130023

5.吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春,130023

基金项目: 吉林大学校科研和教改项目

关键词： CVD金刚石厚膜 , 刻蚀 , 稀土化合物浆料

Etching of CVD Diamond Thick Films by Rare-earth Compound Ink

CVD金刚石厚膜具有极高的硬度,使得对其进行表面抛光极为困难.传统的机械抛光方法既不经济又耗费时间,而一些新的抛光技术又由于实验条件限制而难以推广.针对以上情况,我们寻求到一种新的化学刻蚀方法,即利用稀土化合物浆料对金刚石厚膜生长表面进行刻蚀,破坏表面的晶粒使之成为晶骸,降低表面的耐磨性,以提高表面粗糙的金刚石厚膜的抛光效率.

参考文献

[1]	Jin S, Graebner J E, et al. Nature, 1993, 29 (352): 822-823.
[2]	Ralchenko V G, et al. Applications of Diamond Films and Related Materials: Third International Conference, 1995. 225-232.
[3]	Yoshihiro Mori, et al. Applications of Diamond Films and Related Materials: Third International Conference, 1995. 233-240.
[4]	Bai Yi-Zhen, et al. Chin. Phys. Lett., 1998, 15 (3): 228-229.

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Etching of CVD Diamond Thick Films by Rare-earth Compound Ink

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