金刚石薄膜在氧化铝陶瓷上低压成核

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基金项目: 上海市应用材料研究与发展基金(0006)

Lower Gas Pressure Enhanced Diamond Nucleation on Alumina by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition

在微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)系统中,用低压成核方法,在氧化铝陶瓷基片上获得了高成核密度的金刚石薄膜.实验表明,金刚石成核密度随系统压强减小而提高.在此基础上,提出一种MPCVD系统中金刚石成核的动力学模型,并指出对应于最高成核密度有一临界压强存在.

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