研究了具有立方结构的碳化硅(β-SiC)粉料在单晶生长过程中的物相变化及对生长晶体均匀性、缺陷等的影响.实验发现,在晶体生长过程中原料的晶型转变和Si、C挥发不一致造成晶体沿生长方向存在一个Si/C摩尔比的最大值.晶体中的针孔等缺陷的形成与原料中的杂质和气相组分偏离Si/C=1摩尔比有关,并通过电子探针得到证实.
参考文献
[1] | Dorozhkin S I, Avrov D D, Rastegaev V P, et al. Materials Science and Engineering, 1997, B46:296-299. |
[2] | Jayatirtha H N, Spencer M G, Taylor C, et al. Journal of Crystal Growth, 1997, 174: 662-668. |
[3] | Avrov D D, Bakin A S, Dorozhkin S I, et al. Journal of Crystal Growth, 1999, 198/199: 1011-1014. |
[4] | Tairov Yu M, Tsvetkov V F. Progress in Crystal Growth and Characterization, 1983, 7: 111-161. |
[5] | Tairov Yu M. Materials Science and Engineering, 1995, B (29): 83-89. |
[6] | Aniukin M, Madar R. Materials Science and Engineering, 1997, 1B46: 278-286. |
[7] | 陈之战,肖兵,施尔畏,等(CHEN Zhi-Zhan,et al).无机材料学报(Journal ofInorganic Materials),2002,17(4):685-690. |
[8] | 廖陆林.碳化硅陶瓷的低温烧结研究.上海:上海硅酸盐研究所硕士学位论文,2000.6. |
[9] | 陈之战,施尔畏,肖兵,等.材料导报,2002,16(6):32-34. |
[10] | 王世忠.大尺寸6H-SiC单晶的PVT法生长和SiC单晶中的缺陷分析.上海:上海硅酸盐研究所博士后工作研究报告,1999.7. |
[11] | 郝跃、彭军、杨银堂.碳化硅宽带隙半导体技术.北京:科学出版社,2000.54-56. |
[12] | Takahashi Jun, Masatoshi Kanaya, Yuichiro Fujiwara. Journal of Crystal Growth, 1994, 135: 61-70. |
[13] | Anikin M, Madar R. Materials Science and Engineering, 1997, B (46): 278-286. |
[14] | Glass R C, Kjellery L O, Tsvetkov V F, et al. Journal of Crystal Growth, 1993, 132: 504-512. |
[15] | Nishino S, Higashino T, Tanaka T, et al. Journal of Crystal Growth, 1995, 147: 339-342. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%