用Keggin离子(聚合羟基铝离子)与蒙脱石作用制备了羟基铝柱撑蒙脱石.对羟基铝柱撑蒙脱石及其热处理产物采用X射线衍射分析(XRD)和比表面积(BET法)及孔径分析等方法对其进行了研究.XRD结果表明,羟基铝柱撑蒙脱石底面间距约为2.13nm,热处理(300~650℃)后转变为1.74nm左右.分析表明,铝柱撑蒙脱石比表面积增大为231.6m2/g,比原始蒙脱石增大约7倍.比表面积的增大主要是由于微孔的比表面积的增加,说明柱撑过程主要使蒙脱石的微孔孔隙增多.经热处理后,铝柱撑蒙脱石的孔性发生了很大变化:随着处理温度升高,其比表面积降低,平均孔径增大,微孔体积减少.比表面积的降低主要是由于微孔比表面积的降低.说明热处理使得铝柱撑蒙脱石微孔结构遭到破坏.
参考文献
[1] | 戴劲草,肖子敬,吴宇航,等.矿物学报(ACTA Mineralogica Sinica), 2001, 21 (3): 284-294. |
[2] | Pinnavaia T J. Science, 1983, 220: 365-371. |
[3] | Meier L P, Nueesch R, Madsen F T. Journal of Colloid and Interface. Science, 2001, 238: 24-32. |
[4] | Wang Z, Pinnavaia T J. Chem Mater, 1998, 10: 3769-3771. |
[5] | Wu J H, Lerner M M. Chem Mater, 1993, 5: 835-838. |
[6] | Sun Kou M R, Mendioroz S, Munoz V. Clays and Clay Minerals, 2000, 48: 528-536. |
[7] | Sychev M, Shubina T, Rozwadowski M. Microporous and Mesoporous Materials, 2000, 37: 187-200. |
[8] | Moreno S, Gutierrez E, Alvarez A, et al, Applied Catalysis A, 1997, 165: 103-114. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%