衬底温度对ZnO薄膜生长过程及微观结构的影响研究

无机材料学报, 2004, 19(3): 641-646. doi: 10.3321/j.issn:1000-324X.2004.03.032

衬底温度对ZnO薄膜生长过程及微观结构的影响研究

边继明 ^1, , 李效民 ^2, , 高相东 ^3, , 于伟东 ^4,

1.中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室,上海,200050

2.中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室,上海,200050

3.中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室,上海,200050

4.中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室,上海,200050

基金项目: 国家重点基础研究发展计划(973计划)(2002CB613306) 上海市科技发展基金(022261035)

关键词：氧化锌 , 薄膜 , 超声雾化热分解

Effect of Substrate Temperature on the Deposition Process and Microstructure of ZnO Films Grown by Ultrasonic Spray Pyrolysis Method

以醋酸锌水溶液为前驱体,采用改进的超声喷雾热解法在Si(100)衬底上沉积ZnO薄膜,以X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等手段分析所得ZnO薄膜的晶体结构和微观形貌,着重考察了衬底温度对ZnO薄膜生长过程及微观结构的影响.结果表明,在衬底温度为500°C下所得ZnO薄膜表面均匀光滑,属六方纤锌矿结构,且沿c轴择优生长,晶粒尺寸约为40～50nm;衬底温度对ZnO薄膜生长过程影响显著,随衬底温度的升高,薄膜生长速率存在一极限值,且ZnO薄膜的c轴取向趋势增强,晶粒尺寸得到细化.

参考文献

[1]	Tang Z, Wong3, et al. Appl. Phys. Lett., 1998, 72(25): 3270-3272.
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Effect of Substrate Temperature on the Deposition Process and Microstructure of ZnO Films Grown by Ultrasonic Spray Pyrolysis Method

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