以正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为有机模板,利用仿生合成技术于气-液界面制备出非担载的SiO2无机膜.考察了仿生制备SiO2膜过程中TEOS和CTAB的初始浓度及溶液pH值对膜质量的影响,并在优化所得物料条件下考察了干燥添加剂丙三醇和灼烧条件对膜质量的影响.各种分析和表征结果说明制备出的SiO2仿生膜具有1.8nm的最可几孔径,且上表面光滑平整.
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