HWP-CVD氮化硅薄膜的结构和光学特性

无机材料学报, 2004, 19(4): 907-911. doi: 10.3321/j.issn:1000-324X.2004.04.033

HWP-CVD氮化硅薄膜的结构和光学特性

于威 ^1, , 侯海虹 ^2, , 何杰 ^3, , 王华英 ^4, , 傅广生 ^5,

1.河北大学物理科学与技术学院,保定,071002

2.河北大学物理科学与技术学院,保定,071002

3.河北大学物理科学与技术学院,保定,071002

4.河北建筑科技学院数理部,邯郸,056000

5.河北大学物理科学与技术学院,保定,071002

基金项目: 河北省自然科学基金(500084)

关键词：氮化硅薄膜 , 光学特性 , 螺旋波等离子体增强化学气相沉积

Microstructure and Optical Properties of Hydrogenated Amorphous Silicon Nitride Films Deposited by Helicon Wave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

采用傅立叶红外吸收谱和紫外-可见透射谱研究了螺旋波等离子体增强化学气相沉积法制备的氢化非晶氮化硅薄膜的原子间键合结构和光学特性.结果表明,在不同硅、氮活性气体配比R下,薄膜表现出不同的Si/N比和H原子键合方式,富氮样品中H原子主要和N原子结合,而富硅样品中主要和Si原子结合.随着R的增加,薄膜的光学带隙Eg和E04逐渐减小,此结果关联于薄膜结构无序性程度的增加,而薄膜的(E04-Eg)和Tauc斜率B值之间存在着相互制约关系.

参考文献

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Microstructure and Optical Properties of Hydrogenated Amorphous Silicon Nitride Films Deposited by Helicon Wave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

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