离子束辅助磁控溅射制备类石墨碳膜的结构与性能研究

无机材料学报, 2005, 20(1): 181-186. doi: 10.3321/j.issn:1000-324X.2005.01.028

离子束辅助磁控溅射制备类石墨碳膜的结构与性能研究

赵蕾 ^1, , 付永辉 ^2, , 刘登益 ^3, , 朱晓东 ^4, , 何家文 ^5,

1.西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049

2.西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049

3.西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049

4.西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049

5.西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049

基金项目: 西安交通大学校科研和教改项目

关键词：离子束辅助沉积(IBAD) , 磁控溅射 , 类石墨碳膜 , 结构

Structure and Properties of Graphite-like Carbon by Ion Beam Assisted Magnetron Sputtering Deposition

采用离子束辅助磁控溅射技术(IBMSD)制备了高硬度、低电阻率的类石墨碳膜(GLC),用TEM和XRD考察其组成相,用XPS、FTIR和电阻率间接确定其碳键结构,并测定了不同气体和离子能量辅助轰击下制备的几组薄膜的沉积速率、成分、硬度和粗糙度等.结果表明:采用IBMSD制备的GLC是一种以sp2键为主的非晶硬质碳膜.CH4辅助轰击较Ar有利于提高沉积速率.辅助轰击能量的增大使薄膜表面粗糙度先减小后增大,硬度的变化一定程度上与粗糙度相关.

参考文献

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