碳源流量对碳纳米管厚膜形貌和结构的影响

无机材料学报, 2006, 21(1): 75-80. doi: 10.3321/j.issn:1000-324X.2006.01.013

碳源流量对碳纳米管厚膜形貌和结构的影响

曹章轶 ^1, , 孙卓 ^2, , 郭平生 ^3, , 陈奕卫 ^4,

1.华东师范大学纳米功能材料和器件应用研究中心,上海,200062

2.华东师范大学纳米功能材料和器件应用研究中心,上海,200062

3.华东师范大学纳米功能材料和器件应用研究中心,上海,200062

4.华东师范大学纳米功能材料和器件应用研究中心,上海,200062

基金项目: 上海市纳米科技专项基金(0452NM048) 重庆市应用基础研究基金(02105) 教育部跨世纪优秀人才培养计划上海市科委资助项目(035211036)

关键词：碳纳米管(CNTs) , 化学气相沉积(CVD) , 扫描电镜(SEM) , 透射电镜(TEM) , 拉曼光谱

Acetylene Flow Rate Effect on Morphology and Structure of Carbon Nanotube Thick Films by Low Pressure Chemical Vapor Deposition

采用低压化学气相沉积(LPCVD)在镍片上制备了厚度在400～1000μm范围的碳纳米管(CNTs)薄膜,研究了碳源(乙炔)流量对碳纳米管薄膜形貌和结构的影响.随乙炔流量的增加,碳纳米管薄膜厚度和产量增大.电子显微镜和拉曼光谱研究结果表明,在乙炔流量为10sccm下制备的碳纳米管直径分布范围最小(10～100nm),石墨化程度最高,缺陷密度最小,晶形最完整.随着乙炔流量的增大(30～90sccm),碳纳米管的直径分布范围增大(10～300nm),石墨化程度降低,缺陷密度增大,非晶化程度增加.因此,通过碳源流量可以控制碳纳米管薄膜的形貌和结构.

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