电子回旋共振等离子体辅助溅射沉积锂磷氧氮薄膜

无机材料学报, 2006, 21(1): 193-198. doi: 10.3321/j.issn:1000-324X.2006.01.032

电子回旋共振等离子体辅助溅射沉积锂磷氧氮薄膜

李驰麟 ^1, , 傅正文 ^2, , 舒兴胜 ^3, , 任兆杏 ^4,

1.复旦大学化学系激光化学研究所,上海市分子催化和功能材料重点实验室,上海,200433

2.复旦大学化学系激光化学研究所,上海市分子催化和功能材料重点实验室,上海,200433

3.中国科学院等离子体物理研究所,合肥,230031

4.中国科学院等离子体物理研究所,合肥,230031

基金项目: 中国科学院资助项目(20203006)

关键词：锂磷氧氮薄膜 , 溅射沉积 , 电子回旋共振 , 锂离子传导率

Fabrication of Lithium Phosphorus Oxynitride (LiPON) Thin Films by r.f. Sputtering Coupled with Electron Cyclotron Resonance

用电子回旋共振(ECR)等离子体辅助射频溅射沉积法制备快锂离子传导的锂磷氧氮(LiPON)薄膜.X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、紫外可见吸收光谱等手段表征了在不同ECR功率辅助下沉积的薄膜.结果显示,ECR等离子体对磁控溅射沉积薄膜的生长有明显的影响,能够提高N的插入量,改变薄膜的组成与结构.但是过高的ECR功率反而易破坏薄膜的结构,不利于N的插入.最佳的实验条件是在ECR 200W辅助下沉积的LiPON薄膜,它的电导率约为8×10-6S/cm.讨论了ECR对沉积LiPON薄膜的N插入机理.

参考文献

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[4]	Kim B,Cho Y S,Lee J G,et al.J.Power Sources,2002,109 (1):214-219.
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