MgxZn1-xO薄膜的结构特性研究

无机材料学报, 2006, 21(1): 235-238. doi: 10.3321/j.issn:1000-324X.2006.01.039

MgxZn1-xO薄膜的结构特性研究

张锡健 ^1, , 马洪磊 ^2, , 王卿璞 ^3, , 马瑾 ^4,

1.山东大学物理与微电子学院,济南,250100

2.山东大学物理与微电子学院,济南,250100

3.山东大学物理与微电子学院,济南,250100

4.山东大学物理与微电子学院,济南,250100

基金项目: 高等学校博士学科点专项科研项目(20020422056)

关键词： MgxZn1-xO , 射频磁控溅射 , 结构特性

Structure Properties of MgxZn1-xO Films

采用射频磁控溅射法在80℃衬底温度下制备了MgxZn1-xO(x=0.23)薄膜,用X射线衍射(XRD)、高分辨透射电镜(HRTEM)、喇曼(Raman)光谱和原子力显微镜(AFM)研究了薄膜的结构特性.XRD和HRTEM分析结果表明MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,且具有沿c轴的择优取向,晶格常数与ZnO晶体的近似相等.Raman光谱不仅揭示MgxZn1-xO薄膜具有六角纤锌矿结构,而且也表明MgxZn1-xO薄膜的结晶质量比在相同条件下制备的ZnO薄膜好.AFM图像则显示出MgxZn1-xO薄膜为多晶结构.

参考文献

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