负性SiO2/ZrO2光敏凝胶薄膜上引入微结构的研究

无机材料学报, 2006, 21(3): 753-758. doi: 10.3321/j.issn:1000-324X.2006.03.039

负性SiO2/ZrO2光敏凝胶薄膜上引入微结构的研究

徐翔 ^1, , 周斌 ^2, , 刘春泽 ^3, , 沈军 ^4, , 吴广明 ^5,

1.同济大学波与材料的微结构重点实验室,波耳固体物理研究所,上海,200092

2.同济大学波与材料的微结构重点实验室,波耳固体物理研究所,上海,200092

3.同济大学波与材料的微结构重点实验室,波耳固体物理研究所,上海,200092

4.同济大学波与材料的微结构重点实验室,波耳固体物理研究所,上海,200092

5.同济大学波与材料的微结构重点实验室,波耳固体物理研究所,上海,200092

基金项目: 中国科学院资助项目(20133040) 上海市纳米科技专项基金(0452nm088) 国家科技攻关项目(2002AA842052) 国家自然科学基金(02ZE14101)

关键词：溶胶-凝胶 , 螯合环 , Si-O-Zr , 光栅

Microstructure Fabrication on Negative Tone SiO2/ZrO2 Gel Film

以锆酸丁酯及乙酰丙酮、苯甲酰丙酮为原料,经溶胶-凝胶工艺,制备具有负性光刻胶性质的ZrO2光敏溶胶,在将其与正硅酸乙酯通过水解缩聚反应复合,采用浸渍提拉法在基片上制得折射率在1.463～1.647之间连续可调的SiO2/ZrO2二元光敏凝胶薄膜.其敏感波长在335nm附近.通过FTIR分析,发现凝胶薄膜中含有Si-O-Zr、Zr-O的特征振动峰,证明SiO2与ZrO2两相在分子尺度上形成了微观组分均匀的薄膜.利用掩模板结合紫外曝光及显影工艺在凝胶膜上转移了光栅等表面微结构图形.

参考文献

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