采用硅烷偶联剂(KH-560)对纳米羟基磷灰石(n-HA)表面进行处理,并研究了n-HA与KH-560的界面作用.傅立叶红外光谱(FT-IR)以及X光电子能谱(XPS)分析表明,偶联剂在羟基磷灰石表面黏附,其中硅羟基(Si-OH)与磷酸氢根(HPO2-4)基团之间脱水形成稳定的Si-O-P化学键,此外,硅羟基与HA表面-OH间亦脱水形成化学键合.偶联处理的HA与聚碳酸酯(PC)复合后,复合材料的力学强度与未经处理的相比有明显提高.扫描电子显微镜(SEM)结果显示,经处理后的HA微粒在PC中分散均匀,两者间结合紧密,表明无机有机复合材料间良好的界面作用是提高复合材料力学强度的重要途径.
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