采用脉冲激光沉积技术(PLD)在硅基片上生长了二氧化钛纳米晶氧化物薄膜,系统讨论了基片温度、氧分压等冈素对薄膜结构特性的影响.X射线衍射结果表明在氧气氛下,生长的薄膜为锐钛矿结构,其结晶性随着基片温度的升高而增强,在750℃、5Pa氧压的情况下为完全c轴取向的锐钛矿相TiO2薄膜,在750℃、5Pa氩气氛下则为(110)取向的金红石相薄膜.场发射扫描电子显微镜结果表明薄膜表面致密,呈纳米晶结构,其晶粒尺寸在35nm左右.用傅立叶红外光谱和拉曼光谱对不同条件下制备的TiO2薄膜进行了表征,紫外-可见透射光谱的测试结果表明,薄膜在可见光区具有良好的透过率,计算得到制备的锐钛矿和金红石相TiO2薄膜在550nm处的折射率分别为2.3和2.5,其光学带隙分别为3.2和3.0eV.因此通过沉积条件的改变可得到结晶性能和光学性能都不同的TiO2薄膜.
参考文献
| [1] | Gyorgy E,P6rez del Pino A,Sauthier G,et al.J.Phys.D:Appl.Phys.,2007,40(17):5246-5251. |
| [2] | 张剑平,孙召梅,施利毅,等(ZHANG Jian-Ping,et al).无机材料学报(Journal of Inorganic Materials),2005,20(5):1243-1249. |
| [3] | 顾广瑞,李英爱,陶艳春,等(GU Guang-Rui,et al).无机材料学报(Journal of Inorganic Materials),2003,18(6):1381-1384. |
| [4] | Patrick Fishera,Oleg Maksimovb,Hui Dua,et al.Microelectronics Journal,2006,37(12):1493-1497. |
| [5] | Kennedy R J,Stampe P A.Journal of Crystal Growth,2003,252(1):333-342. |
| [6] | Sakama H,Osada G,Tsukamoto M.Thin Sold Films,2006,515(2):535-539. |
| [7] | Luca D,Macovel D,Teodorescu C M.Suft.Sci.,2006,600(18):4342-4336. |
| [8] | Stankova N E,Atanasov P A,Dikovskaa A.Proc.of SPIE,2005,5830:60-64. |
| [9] | 李汶军,施尔畏,殷之文.人工晶体学报,1999,28(4):368-372. |
| [10] | 李汶军,郑燕青,施尔畏,等(LI Wen-Jun,et al).无机材料学报(Journal of Inorganic Materials),2000,15(6):968-976. |
| [11] | Yoo D,Kim I,Kim S,et al.Appl.Surf Sci.,2007,253(8):3888-3892. |
| [12] | Luca D,Macovei D,Teodorescu C M.Appl.Surf Sci.,2006,252(18):6122-6126. |
| [13] | Popovici N,Jimenez E,Silva R C.J.Non-cryst.Solids.,2006,352(16):1486-1489. |
| [14] | Kumar P M,Badrinarayanan S,Sastry M.Thin Solid Films,2000,358(1-2):122-130 |
| [15] | Djaoued Y,Badileseu S,Pandurang V A,et al.Proc.of SPZE,2001,4469:70-84. |
| [16] | Zhang J Y,Boyd I W,Sullivan B J.J.Non-cryst.Solids.,2002,303(1):134-138. |
| [17] | Aarik J,Kasikov A,Niilisk A.Proc.of SPIE.2007,6596(659616):1-6. |
| [18] | Mazza T,Barborini E,Piseri P,et al.Phy.Rev.B,2007,75(4):045416-1-5. |
| [19] | Aita C R.Appl.Phys.Left.,2007,90(21):213112-1-3. |
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