欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

采用高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积(HPPMS-PIID)和常规直流磁控溅射复合的方法设计制备了包含高结晶度的CrN纳米粒子的DLC薄膜,并对不同C靶电流时制备的CrN-DLC薄膜的形貌、结构及性能进行了研究.结果表明,随C靶电流的增加,薄膜中的含C量增加,在较高的C含量时形成了明显的DLC薄膜特征,掺杂相主要成分为高度200择优取向的CrN纳米晶,其最小晶粒尺寸为42.39 mn.薄膜中的C主要以C-sp2,C-sp3和CN-sp3键的形式存在,sp3键的总含量为sp2总含量的44.8%.所制备的薄膜具有很好的膜基结合力(临界载荷Lc=66.8 N)和较高的纳米硬度(最高达24.3 GPa).

参考文献

[1] Liang F,Yan X.J.Acta Phys Sin,1999; 48:1095(梁风,严学俭物理学报,1999; 48:1095)
[2] Grill A.Diamond Relat Matcr,1999; 8:428
[3] Chcn G H,Yan S G,Zhang F Q.Acta Phys Sin,1992; 41:500(陈光华,阎少光,张仿清.物理学报,1992;41:500)
[4] Schwarz C,Heeg J,Rosenberg M,Wienecke M.Diamond Relat Mater,2008; 17:1685
[5] Takeno T,Hoshi Y,Miki H,Takagi T.Diamond Relat Mater,2008; 17:1669
[6] Gu K M,Tang J N,Li J Q,Yang Q P.J Shenzhen Univ Sci Eng,2007; 24:159(谷坤明,汤皎宁,李均钦,杨钦鹏.深圳大学学报理工版,2007;24:159)
[7] Nie C Y,Zhang B Y,Xie H M.Acta Metall Sin,2007; 43:1207(聂朝胤,张碧云,谢红梅.金属学报.2007; 43:1207)
[8] Veprek S,Argon A S.Surf Coat Technol,2001:146 147:175
[9] Mourae Silva C W,Branco J R T,Cavaleiro A.Thin Solid Films,2006; 515:1063
[10] Baba K,Hatada R,Tanaka Y.Surf Coat Technol,2007;19-20:8362
[11] Tian X B,Wu Z Z,Gong C Z,Yang S Q.Chin Pat,201010213894.4,2010(田修波,吴忠振,巩春志,杨士勤.中国专利,201010213894.4,2010)
[12] Kouznetsov V,Macádk K,Schneider J M,Helmersson U,Petrov I.Surf Coat Technol,1999; 122:290
[13] Helmersson U,Lattemann M,Bohlmark J,Ehiasarian A P,Gudmundsson J T.Thin Solid Films,2006; 513:1
[14] Wu Z Z,Tian X B,Shi J W,Yang S Q,Chu P K.Rev Sci Irst,2011; 82:033511
[15] Wu Z Z,Tian X B,Wang Z M,Gong C Z,Yang S Q.Chin J Vac Sci Technol,2011; 31:1(吴忠振,田修波,王泽明,巩春志,杨士勤.真空科学与技术学报,2011; 31:1)
[16] Li G,Xia L F,Ma X X,Sun Y,Zhan Z J.Acta Metall Sin (Eng Lett),1999; 12:551
[17] Ji H B,Xia L F,Ma X X,Sun Y,Sun M R.Acta Metall Sin (Eng Lett),2000; 13:967
[18] Wu Z Z.Master Dissertation,Harbin Institute of technology,2008(吴忠振,哈尔滨工业大学硕士学位论文,2008)
[19] Tian X B,Wu Z Z,Shi J W,Li X P,Gong C Z,Yang S Q.Vacuum,2010; 47:44 田修波,吴忠振,石经伟,李希平,巩春志,杨士勤.真空,2010;47:44)
[20] Anders A.Surf Coat Technol,1997; 93:158
[21] Martin P J,Bendavid A,Cairney J M,Hoffman M.Surf Coat Technol,2005; 200:2228
[22] Ma D Y,Ma S L,Xu K W.Acta Metall Sin,2004; 40:1037(马大衍,马胜利,徐可为.金属学报,2004; 40:1037)
[23] Guo Y,Xu B,Wu G Z,Ma S L,Xu K W.Acta Metall Sin,2007; 43:159(郭岩,徐彬,吴贵智,马胜利,徐可为,金属学报,2007:43:159)
[24] Alami J,Sarakinos K,Uslu F,Wuttig M.J Phys D:Appl Phys,2009; 42:015304
[25] Vyas A,Shen Y G,Zhou Z F,Li K Y.Compos Sci Technol,2008; 68:2922
[26] Shi Y,Long S,Liang F.Appl Surf Sci,2008; 254:5861
[27] Yang Y Y,Peng Z J,Fu Z Q,Wu S D,Chen X C,Wang C B.Acta Metall Sin,2010; 46:34(杨义勇,彭志坚,付志强,邬苏东,陈新春,王成彪.金属学报.2010; 46:34)
[28] Yang W J,Choa Y-H,Sekino T,Shim K B,Niihara K,Auh K H.Thin Solid Films,2003; 434:49
[29] Jiang B L,Hu P F,Li H T.Trans Mater Heat Treat,2010;31:134(蒋百灵,胡鹏飞,李洪涛.材料热处理学报.2010; 31:134)
[30] Niu S C,Yu Z M,Dai M J,Lin S S,Hou H J,Li H W.China Surf Eng,2007; 20:34(牛仕超,余志明,代明江,林松盛,候惠君,李洪武.中国表面工程.2007; 20:34)
[31] Veprek S,Niederhofer A,Moto K,Bolom T,Mannling H-D,Nesladek P,Dollinger G,Bergmaier A.Surf Coat Technol,2000; 133-134; 152
[32] Robertson J.Mater Sci Eng,2002; R37:129
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%