欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

研究了低取代度阳离子淀粉(CS-L)在Mg-Al 类水滑石(HTlc)上的吸附行为. CS-L可在带结构正电荷的Mg-Al HTlc表面吸附,吸附方程符合Langmuir等温式,300 min左右达吸附平衡,饱和吸附量为33.92 mg/g. 吸附驱动力可能缘自于:CS-L醚键或羟基与HTlc羟基之间形成氢键;熵效应,即吸附所引起的CS的熵减少小于被吸附水释放引起的熵增加. 随着pH值的增加,CS-L和HTlc的Zeta电位均降低,二者静电排斥作用减小,吸附量增加;惰性电解质NaCl和CaCl2的加入可屏蔽HTlc与CS-L之间及CS-L分子内带正电的链段之间的静电排斥力,吸附量增加;pH=9时,带负电的Al八面体多聚体容易吸附在带结构正电荷的HTlc表面进而吸附CS分子,吸附量显著增加;温度升高降低二者氢键作用,吸附量降低. 比较了CS-L与高取代度阳离子淀粉(CS-H)在Mg-Al HTlc上的吸附行为.

参考文献

[1] Itaya K,Chang H,Uchida I.Inorg Chem[J],1987,26(4):624
[2] Dutta P K,Purl M.J Phys Chem[J],1989,93(1):376
[3] Constantino U,Casciola M,Massinelli L,Nocchetti M,Vivani R.Solid State Ionics[J],1997,97(1-4):203
[4] Yong Z,Mata V,Rodrigues A E.Ind Eng Chem Res[J],2001,40(1):204
[5] van de Steeg H G M,de Keizer A,Cohen Stuart M A,Bijsterbosch B H.Colloids Surf A[J],1993,70(1):91
[6] Dedinaite A,Ernstsson M.J Phys Chem B[J],2003,107(32):8181
[7] Samu R,Moulee A,Kumar V G.J Colloid Interf Sci[J],1999,220(2):260
[8] Nystr(o)m R,Backfolk K,Rosenholm J B,Nurmi K.J Colloid Interf Sci[J],2003,262(1):48
[9] Shirazi M,T G M van de Ven,Garnier G.Langmuir[J],2003,19(26):10829
[10] Shirazi M,T G M van de Ven,Garnier G.Langmuir[J],2003,19(26):10835
[11] Tammelin T,Merta J,Johansson L S,Stenius P.Langmuir[J],2004,20(25):10900
[12] Nystr(o)m R,Backfolk K,Rosenholm J B,Nurmi K.Colloids Surf A[J],2003,219(1-3):55
[13] Li Y,Hou W G,Zhu W Q.Colloid Surf A[J],2007,303(3):166
[14] Li S P,Hou W G,Sun D J,Guo P Z,Jia C X.Langmuir[J],2003,19(8):3172
[15] Dubois M,Gilles K A,Hamiliton J K,Rebers P A,Smith F.Anal Chem[J],1956,28(3):350
[16] YAN Xiao-Ci(颜肖慈),LUO Ming-Dao(罗明道).Interface Chemistry(界面化学)[M].Beijing(北京):Chemical Industry Press(化学工业出版社),2004:142
[17] Izumi Y,Kiyotaki F,Minato T,Seida Y.Anal Chem[J],2002,74(15):3819
[18] Li Y,Hou W G,Shen S L.Colloid Surf A[J],2009,350(1-3):109
[19] SHAO Xue-Jun(邵学俊),DONG Ping-An(董平安),WEI Yi-Hai(魏益海).Inorganic Chemistry(Volume Ⅱ)(无机化学,下)[M].Wuhan(武汉):Wuhan University Press(武汉大学出版社),2003:249
[20] Koral I,Ulman R,Eirich F R.J Phys Chem[J],1958,62(5):541
[21] Lipatov Y,Todosijchuk T,Chornaya V.J Colloid Interf Sci[J],2000,232(2):364
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%