TFT-LCD残影不良的研究与改善

液晶与显示 , 2016, 31(3): 270-275. doi: 10.3788/YJYXS20163103.0270

TFT-LCD残影不良的研究与改善

范恒亮 ^1, , 汤展峰 ^2, , 刘利萍 ^3, , 李静 ^4, , 黄静 ^5, , 刘岩龙 ^6,

1.合肥鑫晟光电科技有限公司,安徽合肥,230012

2.合肥鑫晟光电科技有限公司,安徽合肥,230012

3.合肥鑫晟光电科技有限公司,安徽合肥,230012

4.合肥鑫晟光电科技有限公司,安徽合肥,230012

5.合肥鑫晟光电科技有限公司,安徽合肥,230012

6.合肥鑫晟光电科技有限公司,安徽合肥,230012

关键词：残影 , 扭曲向列型 , 配向弱区 , 内部电场

Research and improvement of TFT-LCD image-retention

Keywords： image-retention , twisted nematic , alignment weak area , internal electric field

影像残留是TFT-LCD,特别是TN型产品常见的不良,对产品良率影响很大.本文从产品设计、工艺参数、工艺管控3个方面对残影进行分析.发现产品设计时Data线两侧段差过大,是导致残影发生的主要原因,通过增加配向膜厚度和摩擦强度值可以有效降低残影,实验得出配向膜膜厚高于110 nm,摩擦强度高于5.5N,m时无残影发生.通过控制配向膜工程与摩擦工程间的延迟时间在5h,摩擦工程与对盒工程间的延迟时间在10 h,并且严格管控ITO偏移量可以有效减少Panel内部电场,从而降低残影.通过以上措施,对于15.6HD产品,良率提升了10％,为企业高效生产奠定基础.

参考文献

[1]	吴洪江;王威;龙春平.一种TFT-LCD Vertical Block Mura的研究与改善[J].液晶与显示,2007(4):433-439.
[2]	焦峰;王海宏.FFT-LCD残像原理与分析（基础篇）[J].现代显示,2012(4):54-59.
[3]	焦峰;王海宏.TFT-LCD残像原理与分析-加强篇一[J].现代显示,2012(5):16-20.
[4]	焦峰;王海宏.TFT-LCD残像原理与分析-加强篇二[J].现代显示,2012(6):17-22.
[5]	李永忠;纪伟丰;周炎宏.STN-LCD残影显示的原理分析及实验研究[J].液晶与显示,2011(6):733-740.
[6]	梁珂 .TFT LCD影像残留的研究[D].天津大学,2006.

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