氧化铟锡(ITO)是薄膜晶体管工艺中最常用的透明导电薄膜,随着OLED技术的发展,ITO作为透明阳极材料也被广泛应用.在高厚度(尤其是大于70 nm)非晶ITO工艺过程中,由于多种因素的影响,很容易产生残留,发生残留后会严重影响产品质量和项目进度.本文通过多次实验测试,综合多种不同厚度,尤其是针对高厚度非晶ITO,分析了TFT制程中影响残留的多种因素,考察重点因素及影响规律,有效地修正工艺条件,为之后的项目和生产过程提供了很好的参考价值.
参考文献
| [1] | 曾明刚;陈松岩;陈谋智;王水菊;林爱清;邓彩玲.ITO薄膜微结构对其光电性质的影响[J].厦门大学学报(自然科学版),2004(4):496-499. |
| [2] | 马勇;孔春阳.ITO薄膜的光学和电学性质及其应用[J].重庆大学学报(自然科学版),2002(8):114-117. |
| [3] | 江伟;武光明;王怡;邢光建;韩彬.磁控溅射低温沉积ITO薄膜及其光电特性研究[J].纳米科技,2009(4):38-41. |
| [4] | 马卫红;蔡长龙.磁控溅射制备ITO薄膜光电性能的研究[J].真空,2011(6):18-20. |
| [5] | 袁广才;徐征;张福俊;王勇.溅射及RTA处理对ITO薄膜特性的影响[J].材料研究学报,2007(3):282-286. |
| [6] | 毛联波;向贤明;张俊瑞;张少楠;高刚;MA Yan-yan;马艳艳.TFT-LCD制程中ITO残留的产生与控制[J].现代显示,2007(11):35-38. |
| [7] | 闫金良.用于彩色滤光片的低阻低应力ITO透明导电膜[J].光学技术,2004(04):455-456,459. |
| [8] | 王岩;陆建刚;李延辉.解决单层多点TP产品制造中ITO残留问题的方法[J].科学与财富,2014(11):117-117,118. |
| [9] | 张麦丽;王秀峰;牟强;张方辉.ITO玻璃光刻工艺的研究[J].液晶与显示,2005(1):22-26. |
| [10] | 常天海;孙凯.ITO薄膜的磁控溅射工艺优化研究[J].真空科学与技术学报,2009(3):324-327. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%