Φ125 mm直拉硅单晶氧径向均匀性研究

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Study on Radial Oxygen Uniformity of Φ125 mm Cz-Si Crystal

为控制氧径向均匀性, 选择Φ350 mm热场. 增加晶转速度可以改善氧径向均匀性, 但石英坩埚转速对氧径向均匀性没有明显影响.

[1]	张果虎等.[J].稀有金属,1997,21(05):395.
[2]	佘思明.半导体硅材料学[M].长沙:中南工业大学出版社,1992:143.

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