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综述世界GaAs材料器件的产销情况、市场前景及GaAs材料的发展趋势. 预测2000年GaAs IC用于通讯将占GaAs IC市场的71%, 并以年均增长率15%的速度发展. 发光器件1999年增长12%, 其中激光器件增幅最大, 达16%. GaAs材料电子器件和光电器件的比例约为2∶3. 对大直径 (Φ76 mm以上)、低位错、低热应力、高质量的GaAs单晶有较大的需求量. VB、 VGF和VCZ是满足这些要求的最佳GaAs单晶生长方法.

参考文献

[1] 白须崇一.[J].金属时评,1999(1722):21.
[2] 河崎亮久.[J].电子材料(日本),1995(07):28.
[3] 公江清彦.[J].工业レアメタル,1995(110):40.
[4] [J].金属时评,1996(1628):203.
[5] レアメタル.[J].ニユ-ス,1999(1945):4.
[6] 石黑三郎.[J].工业レアメタル,1996(111):35.
[7] レアメタル.[J].ニユ-ス,1999(1951):1.
[8] 石井郁夫.[J].工业レアメタル,1998(114):20.
[9] レアメタル.[J].ニユ-ス,1999(1943):4.
[10] 铃木康生.[J].工业レアメタル,1998(114):24.
[11] 田崎登.[J].工业レアメタル,1996(112):21.
[12] レアメタル.[J].ニユ-ス,1996(112):21.
[13] Integrated Circuit Engineering[Z].,1995.
[14] 石黑三郎.[J].金属时评,1995(1579):31.
[15] 任学民.[J].电子工业器材,1996(11):33.
[16] 鹫野澄雄.[J].工业レアメタル,1995(111):30.
[17] 石黑三郎.[J].工业レアメタル,1998(114):28.
[18] [N].文汇报,1999-01-11.
[19] [J].Ⅲ-Vs Review,1997,10(02)
[20] [J].Ⅲ-Vs Review,1996,9(02):41.
[21] レアメタル.[J].ニユ-ス,1999(1943):5.
[22] 石黑三郎;田边诚.[J].金属时评,1998(1707):332.
[23] [J].Ⅲ-Vs Review,1998,11(02):6.
[24] レアメタル.[J].ニユ-ス,1998(1888):1.
[25] 横川正道.[J].电子材料(日本),1993(01):32.
[26] [J].Ⅲ-Vs Review,1995,8(06):14.
[27] 石黑三郎.[J].金属时评,1998(1687):45.
[28] Kawase T;Wakamiya T et al.Presented at semi-Insula-ting Ⅲ-Ⅴ materials[Z].Ix-tapa,1992.
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