从热力学角度建立了 MoSi2 氧化相的低温化学稳定性图,并对实验现象进行了分析.建立的 MoSi2 氧化相的低温化学稳定性图阐明了 MoSi2 材料低温氧化生成物与温度、氧分压之间的关系;可较好地解释实验现象和结果;并指出减少 MoSi2 材料的内部缺陷,使扩散至界面的氧分压维持较低数值,可避免生成挥发性 MoO3 相,从而防止材料的"PEST"现象.
参考文献
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