硅单晶片研磨液的研究

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Study on grinding fluid for silicon wafer

论述了研磨液在硅单晶片加工中所起的重要作用以及当今国内外研磨液的发展状况,通过实验研究有效地解决了目前研磨液存在的悬浮、金属离子的去除及表面颗粒吸附问题,并对研磨液的污染及其净化处理进行了分析.

[1]	Larios J M;Ravkin M;Hetherington D.[J].Semiconductor International,1996(05):121.
[2]	程铸生.精细化学品化学[M].上海:华东理工大学出版社,1996
[3]	杜巧云;葛虹.表面活性剂基础及应用[M].北京:中国石化出版社,1996
[4]	赵国玺.表面活性剂物理化学[M].北京:北京大学出版社,1991
[5]	Rosen M J.Surfactants and Interfacial Phenomena[M].New York: John.Wiley & Sons,1978
[6]	刘玉岭,刘钠,曹阳.硅单晶片镜面吸附物吸附状态的研究[J].稀有金属,1999(02):85-89.
[7]	Itana M;Ohmi T .[J].Journal of the Electrochemical Society,1995,142(03):971.
[8]	铃木;佐滕.大规模集成电路工厂洁净技术[M].北京:电子工业出版社,1990

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