采用磁控溅射离子镀和等离子喷涂方法在Be表面制备铝镀层,并分别用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、X射线衍射仪(XRD)、俄歇电子能谱仪(AES)和X射线应力分析仪分析了膜层微结构、表面形貌、膜与基体界面情况以及内应力等.研究表明,Be上磁控溅射离子镀Al时,在膜基界面形成宽度约为 1 μm 的 Be、Al 原子共混区,膜层由柱状晶组成,膜层应力为微压应力.等离子喷涂涂层不如前者致密,界面存在微裂纹,膜层应力为拉应力.
参考文献
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