利用直流磁控溅射法溅射沉积了NiTi形状记忆合金薄膜, 对NiTi形状记忆合金薄膜进行晶化热处理以使其获得形状记忆效应, 研究了550 ℃晶化热处理1 h后Ti-48.2% Ni薄膜的相变温度和力学性能. 研究结果表明, NiTi 薄膜550 ℃晶化热处理1 h后, 升温过程中发生M→A的相变, 而降温过程中则先发生A→R相变, 再发生R→M的相变. 薄膜的断裂强度随测试温度的升高而增大, 残余应变随温度的升高而减小, 当温度大于Af点时, 表现为超弹性.
参考文献
| [1] | Bush J D;Johnson A D;Lee C H et al.[J].Journal of Applied Physics,1990,68(12):6224. |
| [2] | Ishida A;Sato M;Takei A.[J].Metallurgical and Materials Transactions,1996(27A):3753. |
| [3] | Ishida A;Takei A;Sato M.[J].Materials Research Society,1995(360):381. |
| [4] | Ishida A.;Sato M.;Miyazaki S.;Takei A. .STRESS-STRAIN CURVES OF SPUTTERED THIN FILMS OF TI-NI[J].Thin Solid Films: An International Journal on the Science and Technology of Thin and Thick Films,1996(1/2):337-339. |
| [5] | Ishida A;Miyazaki S .[J].Materials Transactions,1994,35(01):14. |
| [6] | 徐东;戚震中;李依群 等.[J].真空科学与技术,1997,17(05):311. |
| [7] | 宫峰飞;沈惠敏;王业宁 等.NiTi形状记忆薄膜的力学性能[J].金属学报,1998,34(02):119. |
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