分别采用脉冲电源和直流电源, 利用TiO2-B2O3-LiF-KF熔盐体系, 在石墨基体上电沉积制备了TiB2镀层.在实验中, 考察了直流电流密度、脉冲宽度、脉冲间隔、脉冲电流幅度等条件对TiB2镀层性能的影响.实验结果表明: 采用脉冲电沉积得到的镀层性能优于直流电沉积.在本实验参数下(摩尔比TiO2∶B2O3∶KF∶LiF＝0.06∶0.4∶0.74∶0.8, 温度800 ℃, 脉冲宽度7.5 ms, 脉冲间隔2.5 ms, 电流密度0.6 A*cm-2, 电沉积时间50 min)得到的TiB2镀层表面平整, 有金属光泽, 结构致密, 晶粒细小, 与基体的结合力良好.
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