CVD制备Ir/Re复合材料的显微组织和再结晶研究

稀有金属, 2005, 29(3): 265-270. doi: 10.3969/j.issn.0258-7076.2005.03.003

CVD制备Ir/Re复合材料的显微组织和再结晶研究

陈松 ^1, , 胡昌义 ^2, , 杨家明 ^3, , 郭俊梅 ^4, , 蔡云卓 ^5, , 邓德国 ^6,

1.昆明贵金属研究所,云南,昆明,650221

2.贵研铂业股份有限公司,云南,昆明,650221

3.昆明冶金研究所,云南,昆明,650031

4.贵研铂业股份有限公司,云南,昆明,650221

5.贵研铂业股份有限公司,云南,昆明,650221

6.贵研铂业股份有限公司,云南,昆明,650221

基金项目: 国家高技术研究发展计划(863计划)(2003AA305770) 云南省自然科学基金(1999E0007Z) 云南省人才培养基金(87)

关键词： CVD , 铱 , 铼 , 显微组织 , 再结晶

Microstructure and Recrystallization of Iridium/Rhenium Composite Prepared by CVD

采用CVD方法制备了Ir/Re复合材料. 研究了Ir层中Ir晶粒的形貌和生长特点, 计算得到Ir晶粒生长动力学方程:(x2-x02)/t=4.31×103 exp(-2.65 eV/kT) (μm2·s-1). 研究了CVD过程中Re层表面晶粒生长和V, W型浸蚀纹的关系. 对靠近Ir层的细晶粒区和Re层中部的柱状晶粒区中Re晶粒的再结晶长大进行了研究, 计算得到柱状晶区中Re晶粒的生长动力学方程:(x2-x02)/t=2.55×103 exp(-1.52eV/kT) (μm2·s-1), 研究了Ir/Re扩散、 Re扩散对细晶区中Re晶粒生长动力学的影响.

参考文献

[1]	Andrew J S;Robert H T;Richard B K .The properties and applications of rhenium produced by CVD[J].Journal of The Minerals,Metals & Materials Society,1991,43:20.
[2]	Arthur J F;Robert H T;Richard B K.Iridium/rhenium combustion chambers for advance liquid rocket propulsion[A].Warrendale Pennsylvania,Publication of TMS,2000:217.
[3]	胡昌义;邓德国;高逸群等.CVD铱涂层/铼基复合喷管研究进展[J].宇航材料工艺,1998,3:7.
[4]	胡昌义,陈松,杨家明,邓德国,高逸群,尹志民,王云,李靖华.CVD法制备的Ir/Re涂层复合材料界面扩散研究[J].稀有金属材料与工程,2003(10):796-798.
[5]	余永宁.金属学原理[M].北京:冶金工业出版社,2000
[6]	余永宁;刘国权.体视学:组织定理分析的原理和应用[M].北京:冶金工业出版社,1989
[7]	唐伟忠.薄膜材料制备原理、技术及应用[M].北京:冶金工业出版社,1999
[8]	Hamilton J C;Yang N Y C;Clift W M .Diffusion mechanisms in chemical vapor-deposited iridium coated on chemical vapor-deposited rhenium[J].Metallurgical and Materials Transactions A:Physical Metallurgy and Materials Science,1992,23:851.

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