由链末端含有-COOH、-OH和丙烯酰氧基的超支化聚合物、多官能丙烯酸酯和光引发剂三组分组成光致抗蚀剂. 在玻璃片上成膜后硬度可达到HB～H的铅笔硬度. 抗蚀剂膜用混合UV光源曝光和四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液显影可获得E0约为5.5×10-3 J/cm2的灵敏度和γ约为8的高反差. 其曝光的灵敏度和反差γ可由显影液和光引发剂调节. 并且显示出刻蚀深度随曝光能量呈现线性变化的关系. 此特性使得该类抗蚀剂可用于微光学元件加工,并可对其表面形状进行控制. 使用该类抗蚀剂,通过移动掩膜曝光制备了200 μm×200 μm的微透镜阵列.
参考文献
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