用pH值为3.5～4.0的冰乙酸水溶液将硅烷偶联剂配制成所需浓度的溶液,对多孔SiO2表面进行硅烷化处理,在过量的氢溴酸和-10～0 ℃低温作用下,合成了带溴端基的活性膜/多孔SiO2复合体. 用X射线光电子能谱、扫描电子显微镜表征了硅烷化后的表面结构,用红外光谱表征了复合体表面的溴端基,用X光荧光光谱测量其表面的溴含量,通过冷水洗涤和热水煮沸考察水对含溴量的影响. 结果表明,复合体表面含有稳定结合活性膜结构,并且能在其端基接上溴基团,最高含溴质量分数达0.34%. 水对复合体表面端基溴的洗脱量较大,热水对于溴的洗脱率比冷水大. 先水洗再溴化的试样要比先溴化再水洗的试样含溴量高. 经30 min的冷水洗涤或热水煮沸后,前者的含溴质量分数降至0.15%和0.13%,后者的含溴质量分数降至0.09%和0.03%.
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