报道了用透射电子显微镜对单层YBCO薄膜,PZT/YBCO集成薄膜,STO/GBCO集成薄膜和STO/BTO超晶格薄膜等四种有代表性的薄膜样品的研究结果.在单层YBCO平面样品中观察到镶嵌,在生长在YBCO/STO上面生长的PZT薄膜中,观察到柱状结构.用PLD方法生长的STO/GBCO,YSZ集成薄膜中缺陷很少.虽然GBCO膜的表面并不平整,但仍能生长出c取向的GBCO薄膜.用MBE方法生长的STO/BTO多层膜具有很好的外延特征.由于晶格匹配和层状生长机制所以具有锐的界面.这些结果对改进铁电超导集成薄膜和多层膜制备工艺是有用的.
参考文献
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[2] | 刘维.高Jc氧化物超导薄膜的XHREM研究[J].电子显微学报,1990(03):159. |
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[5] | 王会生 等.[J].中国科学A辑,1997,27(01):54. |
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