3英寸双面YBCO高温超导外延薄膜研究

低温物理学报 , 2003, 25(z1): 16-19. doi: 10.3969/j.issn.1000-3258.2003.z1.004

3英寸双面YBCO高温超导外延薄膜研究

陈家俊 ^1, , 陶伯万 ^2, , 邓新武 ^3, , 刘兴钊 ^4, , 李德红 ^5, , 张鹰 ^6, , 何世明 ^7, , 李言荣 ^8, , 羊恺 ^9, , 张其劭 ^10,

1.电子科技大学,成都,610054

2.电子科技大学,成都,610054

3.电子科技大学,成都,610054

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关键词：高温超导薄膜 , YBCO , 均匀性

DEPOSITION OF 3-INCH DOUBLE-SIDED YBCO HIGH-Tc SUPERCONDUCTING EPITAXIAL THIN FILMS

本文采用倒筒直流溅射方法(ICS)结合基片变速双轴旋转方式原位生长Φ3英寸双面YBCO高温超导外延薄膜.膜厚分布最大偏差小于10%,薄膜样品的中心与边缘部分的Tc0均达到90K,ΔTc≤0.3K,FWHM(005)≈0.2°,Rs(10GHz,77K)≈0.8mΩ,Jc值分布在2.2～3.1MA*cm-2之间,表明样品均匀性良好.

参考文献

[1]	N Klein .[J].Reports on Progress in Physics,2002,65:1387.
[2]	M Fukutomi;K Komori;K Kawagishi;K Togano .[J].Physica C,2001,357-360:1342.
[3]	R A Rao;C B Eom;M Santer;S M Anlage .[J].IEEE Transactions on Applied Superconductivity,1997,7(07):1278.
[4]	J. Geerk;A. Zaitsev;G. Linker;R. Aidam;R. Schneider;F. Ratzel;R. Fromknecht;B. Scheerer;H. Reiner;E. Gaganidze;R. Schwab .A 3-chamber deposition system for the simultaneous double-sided coating of 5-inch wafers[J].IEEE Transactions on Applied Superconductivity: A Publication of the IEEE Superconductivity Committee,2001(1 Pt.3):3856-3858.
[5]	C S Chern;J S Martens;Y Q Li;B M Gallois,P Lu and B H Kear .[J].Superconductor Science and Technology,1993,6(06):460.
[6]	陶伯万;刘兴钊;罗安 .[P].中国专利:012060569
[7]	B W Tao;J J Chen;X Z Liu;Y R Li,J Appl.[J].Phy

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